GAKUSEE
半導体の製造工程
> 12 ダイシング
01
01 回路・パターン設計
02
02 フォトマスク作成
03
03 インゴット作成
04
04 インゴット切断
05
05 ウェーハ研磨
06
06 洗浄・乾燥
07
07 成膜
08
08 リソグラフィ
09
09 不純物拡散・イオン注入
10
10 平坦化
11
11 ウェーハ検査
12
13
13 ダイボンディング
14
14 ワイヤーボンディング
15
15 モールド
16
16 トリム&フォーム
17
17 バーンイン
18
18 マーキング
ダイシング
ウェーハの上に多数作られたICチップを、ひとつひとつバラバラに切り離す工程です。ダイヤモンドの砥粒を埋め込んだ薄い円盤状の刃を高速回転させ、冷却水をかけながら切断する「ブレードダイシング」が一般的です。この工程によって、ウェーハは個別の半導体チップ(ダイ)になります。
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